低壓真空滲碳爐是專門用來做真空滲碳淬火工藝的爐子,它不同于傳統(tǒng)真空爐將零件裝爐后,抽到高真空,然后再加熱到滲碳溫度,通入少量的滲碳?xì)怏w進(jìn)行滲碳,通常滲碳時在5-20毫巴的低真空下進(jìn)行,因此稱其為低壓真空滲碳工藝,滲碳結(jié)束后進(jìn)行淬火得到馬氏體為主的組織。傳統(tǒng)真空爐是在無氣體的真空環(huán)境下工作,將零件進(jìn)行加熱、保溫和冷卻,來實現(xiàn)熱處理工藝,一般可做無氧化的淬火、退火等工藝。真空度相對較高。低壓真空滲碳爐是在低壓真空狀態(tài)下,通過多次強滲+擴散過程,以達(dá)到零件滲層深度要求的工藝過程,其控制方法為“飽和值調(diào)整法”。即在強滲期使奧氏體固溶碳飽和,在擴散期固溶的碳向內(nèi)部擴散到目標(biāo)的要求值,通過調(diào)整滲碳、擴散時間比,達(dá)到控制表面碳濃度和滲碳層深度的目的。其優(yōu)點是:
1.無內(nèi)氧化,能顯著提高零件表面疲勞性能。
2.處理后畸變小。
3.計算機控制,滲碳精度高。
4.處理后產(chǎn)品表面呈光亮狀,可不經(jīng)清洗、噴丸工序。
2023-06-30
2023-06-16
2023-06-02
2023-05-26
2023-05-19